特集1 Part2〜技術の本命争い激化 0.05μm以降3候補
日経マイクロデバイス 第188号 2001.2.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第188号(2001.2.1) |
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ページ数 | 10ページ (全6580字) |
形式 | PDFファイル形式 (177kb) |
雑誌掲載位置 | 50〜59ページ目 |
トランジスタ 高速化 低消費電力化ゲート長0.05μm以降のトランジスタ技術の本命争いが激化してきた。有力な技術候補は,開発方針によって三つに分類できる。(1)従来技術の改良,(2)新構造・材料の導入,(3)ナノテクノロジの導入である。(1)は,現在最も実用に近い。代表例は米Intel Corp.が試作したゲート長0.03μmのトランジスタである。2005年に量産するという具体的な計画を宣言してい…
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