特集 Ｐａｒｔ１〜歩留まり劣化要因急増 プロセス精密化で克服
日経マイクロデバイス 第184号 2000.10.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第184号（2000.10.1） |
|---|---|
| ページ数 | 8ページ （全7956字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （115kb） |
| 雑誌掲載位置 | 86〜93ページ目 |
ＬＳＩプロセス 生産技術 システムＬＳＩ歩留まり向上を目指し，プロセスを精密制御することがＬＳＩメーカーにとって不可欠になる。従来の歩留まり管理手法が限界に達してきたからだ。すでに０．２５〜０．１８μｍプロセスで，その兆候が見え始めていた。今後の主力製品であるシステムＬＳＩで，「思ったように歩留まりが上がらない」と嘆くＬＳＩメーカーが少なくない。今後は，大量生産に頼らずに，早期に歩留まりを確保しな…
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