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日経マイクロデバイス 第184号 2000.10.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第184号（2000.10.1） |
|---|---|
| ページ数 | 4ページ （全4074字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （114kb） |
| 雑誌掲載位置 | 81〜84ページ目 |
ＬＳＩ製造ホールの底を容易に観察できるＳＥＭ■ＳＥＭ「ＪＰＭ−２０００」 これまで観察が困難だったコンタクト・ホールやビア・ホールの底を容易に観察，測長できる走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）。ＮＥＣエレクトロンデバイス評価技術開発本部が開発した「ＥＢスコープ」技術（本号，ｐｐ．９４−１０１に関連記事）を，日本電子のレビューＳＥＭ「ＪＷＳ−７０００シリーズ」に組み込んで実現した（図１，図２）。 エッチング…
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