Details LSI(メモリー)〜0.1μm対応DRAMセル 量産版技術を米独連合と 韓国メーカーが開発完了
日経マイクロデバイス 第175号 2000.1.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第175号(2000.1.1) |
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ページ数 | 2ページ (全2381字) |
形式 | PDFファイル形式 (49kb) |
雑誌掲載位置 | 163〜164ページ目 |
DRAM微細化大容量化学会先行LSIメーカーが,0.1μmルール対応の量産版DRAMセル技術の開発を完了した。1999年12月5日〜8日に米国ワシントンD.C.で開かれた「1999 International Electron Devices Meeting(1999 IEDM)」において,米IBM社(IBM Corp.)と独インフィニオンテクノロジーズ社(Infineon Technologie…
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