Ｄｅｔａｉｌｓ　ＬＳＩ（メモリー）〜０．１３μｍ時代の前哨戦　エキシマ・レーザーの　製品化が相次ぐ
日経マイクロデバイス　第175号　2000.1.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第175号（2000.1.1）
ページ数	2ページ　（全1675字）
形式	PDFファイル形式　（52kb）
雑誌掲載位置	165〜166ページ目

エキシマ・　レーザー露光微細化０．１３μｍ時代の前哨戦がいよいよ始まった。ＬＳＩメーカーによる０．１３μｍの本格的な戦いが２００１〜２００２年に始まることに対応し，０．１３μｍ向けのエキシマ・レーザー装置が１９９９年１２月に開かれた「セミコン・ジャパン　９９」に続々と登場した。まず，２０００年に出荷される０．１３μｍの試作・少量量産向け露光装置に搭載することを目標にする。その上でレーザーの出力，エ…