ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＳＩ（ロジック）〜０．１μｍ以降の配線技術や トランジスタの開発方針が注目を集めた「ＳＳＤＭ’９９」
日経マイクロデバイス 第173号 1999.11.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第173号（1999.11.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全694字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （46kb） |
| 雑誌掲載位置 | 142ページ目 |
配線技術微細化学会 ０．０５μｍルール向け配線技術や，ゲート長が０．１μｍ以下のトランジスタの開発方針が，９月２１日〜２４日に開かれた「１９９９ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ ｏｎ Ｓｏｌｉｄ Ｓｔａｔｅ Ｄｅｖｉｃｅｓ ａｎｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ（ＳＳＤＭ’９９）」で注目を集めた。０．０５μｍ配線技術の開発方針は，米Ｇｅｏｒｇｉａ工科大学のＪａｍｅｓ Ｄ． Ｍｅｉｎｄｌ氏が基…
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