Ｎｅｗ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ〜信号対雑音比を５倍に向上
日経マイクロデバイス 第270号 2007.12.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第270号（2007.12.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全527字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （543kb） |
| 雑誌掲載位置 | 153ページ目 |
信号対雑音比（Ｓ／Ｎ比）を従来機の５倍に向上し，異物検査能力を高めたレチクル／マスク異物検査装置（図８）。パターン加工後のレチクル／マスク上で，直径０．３５μｍの異物を検出できる。また，従来機ではペリクルを保持する枠から４ｍｍ以内の領域は検査できなかったが，Ｓ／Ｎ比の向上により，枠から１ｍｍのところまで検査できるようになった。今回の装置では，照明用の光ビームのスポット径を従来機より縮小することに…
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