New Products〜高精度の加工終点検出が可能
日経マイクロデバイス 第270号 2007.12.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第270号(2007.12.1) |
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ページ数 | 1ページ (全578字) |
形式 | PDFファイル形式 (543kb) |
雑誌掲載位置 | 153ページ目 |
集束イオン・ビーム(focused ion beam:FIB)装置と電界放出型走査電子顕微鏡(FE−SEM)を一体化した,集束イオン・電子ビーム加工観察装置(FIB−SEM)(図7)。二つの機能を一体化することで,FIB加工後の観察のほかに,FIB加工時の高精度の終点検出が可能になった。FIB部は,低球面収差光学系を使うことで,ビーム径1μmの場合に50nAと大きなビーム電流を実現した。その結果…
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