Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜ＬＳＩの新材料採用に異分野メーカーが動く試薬メーカー大手も参入
日経マイクロデバイス 第267号 2007.9.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第267号（2007.9.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全372字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （315kb） |
| 雑誌掲載位置 | 99ページ目 |
４５ｎｍ世代を迎えて，ＬＳＩに使用される材料の種類は大幅に増えた。例えば，高誘電率（ｈｉｇｈ−ｋ）ゲート絶縁膜用のＡＬＤ（ａｔｏｍｉｃ ｌａｙｅｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）には特殊な出発材料が必要であり，既存の材料メーカーでの対応が難しくなっている。こうした背景から，半導体材料分野への異分野メーカーの参入が始まった。「ＳＥＭＩＣＯＮ Ｗｅｓｔ ２００７」に初めて出展した米Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ…
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