Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜ＩＳＭＩの４５０ｍｍプロジェクト逆風の中で始動へ
日経マイクロデバイス 第267号 2007.9.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第267号（2007.9.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全380字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （315kb） |
| 雑誌掲載位置 | 99ページ目 |
「ＳＥＭＩＣＯＮ Ｗｅｓｔ ２００７」では，業界関係者の関心を集めているＳｉウエーハの４５０ｍｍ化で大きな動きがあった。米Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ ＳＥＭＡＴＥＣＨ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ Ｉｎｉｔｉａｔｉｖｅ（ＩＳＭＩ）が，４５０ｍｍへの移行に向けたプロジェクトを始動させることを発表したのである。７月１６日の“Ｉｎｄｕｓｔｒｙ Ｂｒｉｅｆｉｎｇ”で，同社 ＤｉｒｅｃｔｏｒのＳｃｏｔｔ Ｋ…
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