Report[LSI]〜high−k/メタル対応で装置業界に激震AMATの牙城をASMやTELが切り崩す
日経マイクロデバイス 第267号 2007.9.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第267号(2007.9.1) |
---|---|
ページ数 | 1ページ (全2487字) |
形式 | PDFファイル形式 (494kb) |
雑誌掲載位置 | 88ページ目 |
米Applied Materials, Inc.(AMAT)の成膜装置の牙城を,オランダASM International N.V.や東京エレクトロン(TEL)が切り崩している。こうした装置・部材業界の“地殻変動”が,7月に開催された「SEMICON West 2007」に見えた(図1)。 このキッカケとなったのが,LSIへの新材料の導入である。米Intel Corp.と米IBM Corp.がそ…
記事の購入(ダウンロード)
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 330円(税込)
他のIDで購入する
G-Search ミッケ!は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「1ページ(全2487字)」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
(注)特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。