Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜マイクロ波でウエーハを加熱半導体プロセス研究所が米ＤＳＧから販売権取得
日経マイクロデバイス 第265号 2007.7.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第265号（2007.7.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全335字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （336kb） |
| 雑誌掲載位置 | 107ページ目 |
半導体プロセス研究所は，米ＤＳＧ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｉｎｃ．のマイクロ波加熱装置「ＡＸＯＭ−２００／３００」の日本における独占販売権を取得するとともに，プロセス開発やデバイスへの応用に関する技術的パートナ・シップを締結した。既に日本ユーザーによる評価と受注活動を開始しており，２００７年内に２台の受注を目指す。ＡＸＯＭシリーズは，周波数が５．８ＧＨｚのマイクロ波を使ってＳｉウエーハを５０〜５５…
記事の購入（ダウンロード）
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 330円（税込）
他のIDで購入する
G-Search ミッケ！は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「1ページ（全335字）」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
（注）特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。
Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜米ＩｎｔｅｌのＧａｒｇｉｎｉ氏４５ｎｍ以降も「２年ごとの微細化を堅持」
Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜「台湾・中国のＤＲＡＭは２０１０年までに韓国を抜く」米ｉＳｕｐｐｌｉが予測
Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜産学独連携の成功事例としてＳｅｌｅｔｅが「Ｈｉｇｈ−ｋ Ｎｅｔ」を紹介
Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜ＩＢＭなどＬＳＩメーカー５社３２ｎｍ世代のＣＭＯＳプロセス開発で合意
Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜３００ｍｍウエーハでの生産伸びがやや鈍る
