Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜ＩＢＭなどＬＳＩメーカー５社３２ｎｍ世代のＣＭＯＳプロセス開発で合意
日経マイクロデバイス 第265号 2007.7.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第265号（2007.7.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全455字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （336kb） |
| 雑誌掲載位置 | 107ページ目 |
米ＩＢＭ Ｃｏｒｐ．などＬＳＩメーカー５社が，３２ｎｍ世代の半導体プロセスと生産技術の開発を共同で実施することに合意した。対象は論理ＬＳＩ向けバルクＣＭＯＳ プロセス技術である。５社の協業は２０１０年まで続く予定であり，２００９年第４四半期には３２ｎｍ世代のＬＳＩを製品化するという。共同開発の拠点は，ニューヨーク州Ｅａｓｔ ＦｉｓｈｋｉｌｌにあるＩＢＭの拠点とする。合意したのは，ＩＢＭと「Ｃｏｍ…
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