Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜米ＩｎｔｅｌのＧａｒｇｉｎｉ氏４５ｎｍ以降も「２年ごとの微細化を堅持」
日経マイクロデバイス 第265号 2007.7.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第265号（2007.7.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全434字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （336kb） |
| 雑誌掲載位置 | 106ページ目 |
米Ｉｎｔｅｌ Ｃｏｒｐ．のＬＳＩ製造技術戦略を統括する同社Ｆｅｌｌｏｗ，Ｄｉｒｅｃｔｏｒ ｏｆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ＳｔｒａｔｅｇｙのＰａｏｌｏ Ａ． Ｇａｒｇｉｎｉ氏は，５月２４日に都内で会見し，「４５ｎｍ以降も２年ごとの微細化を堅持する」との姿勢を強調した。２００７年後半に量産化する４５ｎｍに続き，２００９年に３２ｎｍ，２０１１年に２２ｎｍのＬＳＩの量産を始める。さらに，マルチ・ゲート構造…
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