Ｒｅｐｏｒｔ［ＬＳＩ］〜６５ｎｍ以降のマスク・コスト削減策ＬＳＩメーカーの設計データを活用
日経マイクロデバイス 第264号 2007.6.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第264号（2007.6.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全3448字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （698kb） |
| 雑誌掲載位置 | 82ページ目 |
ＬＳＩの６５ｎｍ以降への微細化に伴って高騰する露光用マスクのコスト削減に，マスク・メーカーやＬＳＩメーカー，そしてマスク描画装置メーカーが本腰を入れ始めた（図１）。マスク大手の大日本印刷とＤＦＭ（ｄｅｓｉｇｎ ｆｏｒ ｍａｎｕｆａｃｔｕｒａｂｉｌｉｔｙ）サービスを手掛ける米Ｔａｋｕｍｉ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｃｏｒｐ．は，ＬＳＩメーカーのマスク設計データを活用してマスク欠陥の修正の負荷を軽減する…
記事の購入（ダウンロード）
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 330円（税込）
他のIDで購入する
G-Search ミッケ！は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「1ページ（全3448字）」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
（注）特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。
Ｔｕｔｏｒｉａｌ 連載（２）●ウエーハ表面の欠陥検査〜歩留まりの低下もたらす欠陥“暗視野＋明視野”検査で特定
Ｔｕｔｏｒｉａｌ 第３回●黎明期（１）基礎を確立したＴＮモード〜開拓者の熱意から生まれた液晶パネルの基礎
Ｔｕｔｏｒｉａｌ 囲み 第３回●黎明期（１）基礎を確立したＴＮモード〜液体と結晶の性質を併せ持つ「液晶」
Ｔｕｔｏｒｉａｌ 囲み 第３回●黎明期（１）基礎を確立したＴＮモード〜高い信頼性を実現したＴＮモードの動作原理
Ｒｅｐｏｒｔ［ＬＳＩ］〜Ｓｉ貫通電極が実用段階にＩＢＭが通信用ＬＳＩをサンプル出荷へ
