New Products 低温硬化とアルカリ現象が可能〜低温硬化とアルカリ現像が可能
日経マイクロデバイス 第263号 2007.5.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第263号(2007.5.1) |
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ページ数 | 1ページ (全527字) |
形式 | PDFファイル形式 (1081kb) |
雑誌掲載位置 | 133ページ目 |
200℃以下と低温で硬化し,アルカリ水溶液での現像が可能なネガ型感光性ポリイミド・コーティング材(図1)。表面保護と応力緩和のためのチップの保護膜として使える。半導体デバイスには,耐熱性や機械強度に劣る層間絶縁膜や,熱で結晶構造が変化するゲート絶縁膜の採用が進んでおり,低温硬化が可能な保護膜が求められていた。従来のネガ型感光性ポリイミド・コーティング材は,溶媒に溶解しやすいポリイミド前駆体を用い…
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