Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜「『ＲＲＡＭ』の実用化への道見えた」シャープ参画プロジェクトの進展を産総研らが報告
日経マイクロデバイス 第262号 2007.4.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第262号（2007.4.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全488字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （329kb） |
| 雑誌掲載位置 | 98ページ目 |
シャープが開発を手掛ける抵抗変化型不揮発性メモリー「ＲＲＡＭ」が，実用化に向けて大きく動き始めた。シャープ，アルバック，大阪大学，産業技術総合研究所（産総研）の４グループは，２００５年からＲＲＡＭの共同開発を進めている。新エネルギー・産業技術総合開発機構（ＮＥＤＯ）の助成による，「遷移金属酸化物を用いた超大容量不揮発性メモリとその極微細加工プロセスに関する研究開発」プロジェクトである。開発プロジ…
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