Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＥＤＡ］〜「ここでも選択と集中」ＮＥＣエレが戦略変更５５ｎｍ世代のセルベースＬＳＩで
日経マイクロデバイス 第261号 2007.3.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第261号（2007.3.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全411字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （947kb） |
| 雑誌掲載位置 | 98ページ目 |
ＮＥＣエレクトロニクスは，５５ｎｍ世代のＣＭＯＳプロセスで製造するセルベースＬＳＩ「ＣＢ−５５Ｌ」の受注を始めた。１月１８日に東京で開催した同ＬＳＩの説明会で，同社 第一システム事業本部長の井口広氏は，セルベースＬＳＩの戦略変更を明らかにした。「従来は高速サーバーや通信機などのハイエンド市場もカバーしてきたが，今後は成長が見込める市場に狙いを定める」（同氏）。具体的には，デジタル・ビデオ・カメラ…
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