Ｎｅｗ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ 研究開発と少量生産に対応〜研究開発と少量生産に対応 スパッタリング装置「ＪＳＰ−８０００」
日経マイクロデバイス 第261号 2007.3.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第261号（2007.3.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全562字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （1541kb） |
| 雑誌掲載位置 | 141ページ目 |
研究開発だけでなく少量生産にも使えるスパッタリング装置（図２）。真空度を高めるとともに，パーティクルの影響を抑えられる構造とした。ハード・ディスク装置のヘッドに使う磁性材料多層膜やＭＥＭＳデバイス用の絶縁材料などの開発に使える。通常のスパッタ装置の真空度は５×１０−６Ｐａ程度だが，ＪＳＰ−８０００は７×１０−７Ｐａまで高められる。このほかに，カソードとウエーハを垂直方向に配置する「サイドスパッタ…
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