Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜４０ｎｍ以降に向け液浸露光でＮＡ１．７目指す 高屈折率材料の議論が活発化
日経マイクロデバイス 第258号 2006.12.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第258号（2006.12.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全228字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （266kb） |
| 雑誌掲載位置 | 181ページ目 |
水液浸に次ぐ４０ｎｍ以下の世代にどのリソグラフィを使うかは，現在大きな懸念事項となっている。今回の「３ｒｄ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ ｏｎ Ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ」ではその中の有力候補として高屈折率材料による高ＮＡ化の現状が報告された。全体としては高屈折率液体とＬｕＡＧを使ってＮＡ１．５５から将来的には１．６５や１．７０まで狙っていきたいという議論がされ…
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