Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜４５ｎｍ対応の露光用マスク製造ライン　大日本印刷が京都に増設
日経マイクロデバイス　第258号　2006.12.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第258号（2006.12.1）
ページ数	1ページ　（全308字）
形式	PDFファイル形式　（266kb）
雑誌掲載位置	181ページ目

　大日本印刷は，４５ｎｍ世代のＬＳＩ製造に対応する露光用マスクの製造ラインを，同社の露光用マスク製造拠点である京都工場の敷地内に増設する。２００６年１２月に着工し，２００８年１月に稼働する。投資額は１６０億円の計画である。新棟の建築面積は１７４３ｍ２，延べ床面積は５７５２ｍ２とし，微振動対策免震構造の鉄骨４階建てとする。新棟に設ける製造ラインでは，２００８年度に７０億円，２０１０年度に１２０億円の…