Ｔｕｔｏｒｉａｌ　本命で斬るプロセス装置技術総覧　最終回●検査・解析〜最終回●検査・解析　原子像や金属組成比を可視化　歩留まりの早期改善に生かす
日経マイクロデバイス　第258号　2006.12.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第258号（2006.12.1）
ページ数	4ページ　（全5153字）
形式	PDFファイル形式　（397kb）
雑誌掲載位置	188〜191ページ目

連載の最終回では，ＬＳＩの量産工場で使われている検査・解析装置を取り上げる。検査・解析装置はＬＳＩの不良原因を究明し，歩留まりを早期に改善することが目的になる。ここで重要になるのが，不良を引き起こす物理現象をいかに可視化するかである。例えば，トランジスタのしきい電圧を制御するために，金属組成比のウエーハ面内分布を可視化する装置が４５ｎｍ世代向けの量産ラインに続々と導入されている。こうした量産ライン…