Ｓｐｅｃｉａｌ　Ｆｅａｔｕｒｅ　インタビュー集〜●日立ハイテクノロジーズ　ＳＥＭやエッチャが伸長　ＡＳＭＬの露光装置は倍増
日経マイクロデバイス　第258号　2006.12.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第258号（2006.12.1）
ページ数	1ページ　（全800字）
形式	PDFファイル形式　（729kb）
雑誌掲載位置	40ページ目

中野　和助　氏執行役常務　半導体製造装置営業統括本部　統括本部長　２００６年は，プロセス装置と検査・解析装置の売上高がいずれも対前年比で２ケタ増と好調だった。プロセス装置については，エッチャの売上高が，米国向けを中心に対前年比で５０％増加した。特に，ハード・マスクを利用するメタル・ゲート・エッチャがメモリー向けなどで好調である。エッチャは，車載用デバイスや高耐圧デバイス向けでも広く採用されている。…