Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜液浸露光の国際会議，量産目前の成果続出 水液浸の“次”を探る動きも
日経マイクロデバイス 第257号 2006.11.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第257号（2006.11.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全380字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （255kb） |
| 雑誌掲載位置 | 105ページ目 |
液浸露光技術の国際会議「３ｒｄ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ ｏｎ Ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ」の本会議が１０月３日，京都で始まった。参加者は３６０名を越え，液浸実用化の熱気とともに，水を使った液浸の“次”を探る動きが中心となっている。２００６年の特徴は，フルフィールド露光装置により実際の素子を量産条件で露光し，その成果を発表していることにある。課題とされてきた…
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