Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜「未曾有の需要」，Ｓｉウエーハ出荷は ２００６年に１８％成長とＳＥＭＩが予測
日経マイクロデバイス 第257号 2006.11.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第257号（2006.11.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全309字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （255kb） |
| 雑誌掲載位置 | 105ページ目 |
ＳＥＭＩ（Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ ａｎｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ）は，Ｓｉウエーハ出荷面積の２００９年までの予測値を発表した。２００６年の出荷面積は，前年比１８％増の７８億１１００万平方インチ（１インチは２．５４ｃｍ）になるという。２００９年までの年平均成長率も１０％を超える予測である。ＳＥＭＩ ＳＭＧ（Ｓｉｌｉｃｏｎ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｅｒｓ …
記事の購入（ダウンロード）
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 330円（税込）
他のIDで購入する
G-Search ミッケ！は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「1ページ（全309字）」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
（注）特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。
Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜ベベル洗浄技術を搭載したウエーハ洗浄装置 大日本スクリーン製造が発売
Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜“製造力”高める米ＡＭＤ 量産ラインの情報化で生産革新目指す
Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜ＥＢ直描のＬＳＩ試作サービス ６５ｎｍ向けを２００７年に開始
Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜液浸露光の国際会議，量産目前の成果続出 水液浸の“次”を探る動きも
Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜ひずみＳｉ向けのバッチ式ＳｉＧｅ成膜装置 アルバックが開発
