Ｒｅｐｏｒｔ［ＬＳＩ］〜量産に向け最終段階の液浸露光技術　３２ｎｍ狙う高屈折率材料にも期待
日経マイクロデバイス　第257号　2006.11.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第257号（2006.11.1）
ページ数	2ページ　（全2320字）
形式	PDFファイル形式　（277kb）
雑誌掲載位置	95〜96ページ目

　液浸ＡｒＦ露光技術が２００６年内の量産開始に向け，最終段階に入った。純水を使った液浸露光の次を担う高屈折率材料を使った液浸露光技術も，ここへ来て開発が活発化している。こうした状況が，この１０月に京都で開かれた液浸露光技術に関する国際会議「３ｒｄ　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ　ｏｎ　Ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ　Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ」で明らかになった（図１）。また，３２ｎｍ世代以降の本命…