Ｒｅｐｏｒｔ［ＬＳＩ］〜４５ｎｍ量産開始は２００７年第３四半期　台湾ＴＳＭＣが技術ロードマップを発表
日経マイクロデバイス　第257号　2006.11.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第257号（2006.11.1）
ページ数	3ページ　（全3577字）
形式	PDFファイル形式　（297kb）
雑誌掲載位置	92〜94ページ目

　台湾Ｔａｉｗａｎ　Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ　Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ　Ｃｏ．，　Ｌｔｄ．（ＴＳＭＣ）は，毎年恒例の技術シンポジウムを横浜市で２００６年９月１５日に開催し，プロセス技術や設計支援技術のロードマップを明らかにした（図１）。本誌は同シンポジウム会場で，プロセス技術の先行きを発表したＶｉｃｅ　Ｐｒｅｓｉｄｅｎｔ，　Ｒｅｓｅａｒｃｈ　＆　ＤｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔのＹｕａｎ−Ｃｈｅｎ　Ｓｕ…