Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜オランダＡＳＭＬのＥＵＶ露光装置が アルファ機を納入
日経マイクロデバイス 第256号 2006.10.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第256号（2006.10.1） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全387字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （255kb） |
| 雑誌掲載位置 | 100〜101ページ目 |
オランダＡＳＭＬ Ｈｏｌｄｉｎｇ ＮＶ（ＡＳＭＬ）は，ＥＵＶ（ｅｘｔｒｅｍｅ ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）露光装置のアルファ機「Ａｌｐｈａ Ｄｅｍｏ Ｔｏｏｌ」を，業界に先駆けてベルギーＩＭＥＣ（Ｉｎｔｅｒｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ Ｍｉｃｒｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｃｅｎｔｅｒ）と米Ａｌｂａｎｙ ＮａｎｏＴｅｃｈに納入した。同装置はプロセス開発向けだが，ＬＳＩの量産に使うフルフィールドの露光が可能である…
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