Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜エッチング時のパターン依存性まで補正する ＤＦＭサービスを米Ｉｎｖａｒｉｕｍが日本で展開
日経マイクロデバイス 第252号 2006.6.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第252号（2006.6.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全535字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （123kb） |
| 雑誌掲載位置 | 95ページ目 |
露光時の光近接効果だけではなく，エッチング時のパターン依存性まで補正する「ＰＰＣ（Ｐｒｏｃｅｓｓ ａｎｄ Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｉｏｎｓ）」技術を使ったＤＦＭ（ｄｅｓｉｇｎ ｆｏｒ ｍａｎｕｆａｃｔｕｒａｂｉｌｉｔｙ）サービスをベンチャの米Ｉｎｖａｒｉｕｍ， Ｉｎｃ．が日本市場で本格的に事業展開する。プリミアテクノロジーズと提携し，日本やアジアのＬＳＩメーカーに売り込む。今回の技…
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