Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜ＳＩＩナノテクと大日本印刷が共同開発 マスク描画データのチェック・ツールを発売
日経マイクロデバイス 第252号 2006.6.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第252号（2006.6.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全461字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （123kb） |
| 雑誌掲載位置 | 95ページ目 |
エスアイアイ・ナノテクノロジー（ＳＩＩナノテク）は，マスク描画データに対して，実際にマスクの描画や検査ができるかチェックするツール「ＳｍａｒｔＭＲＣ」を大日本印刷と共同開発し，２００６年４月から発売する。現在ではＯＰＣ（光近接効果補正）が多用され，ＬＳＩ設計時にマスクの描画や検査ができないほど細かいパターンが生成されることがある。このようなパターンを事前に検出・排除し，マスク製造の手戻りを防ぐ。…
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