Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜ルネサスが米Ｂｒｉｏｎの リソグラフィ検証システムを採用
日経マイクロデバイス 第252号 2006.6.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第252号（2006.6.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全265字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （123kb） |
| 雑誌掲載位置 | 95ページ目 |
米Ｂｒｉｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ， Ｉｎｃ．は，同社のリソグラフィ検証システム「Ｔａｃｈｙｏｎ ＲＤＩ」をルネサス テクノロジが採用したと発表した。ルネサスは今回の技術によって６５ｎｍノードの設計期間短縮を狙う。６５ｎｍ以降のリソグラフィでは，ＲＥＴ（超解像技術）やＯＰＣ（光近接効果補正）が複雑化する。このため，マスク製造前にＲＥＴやＯＰＣの効果をシミュレーションによって検証する作業の負荷…
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