Ｒｅｐｏｒｔ［ＬＳＩ］〜マスク・レイアウト設計データの　チェック装置，米ＫＬＡが発売
日経マイクロデバイス　第246号　2005.12.1

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掲載誌	日経マイクロデバイス　第246号（2005.12.1）
ページ数	1ページ　（全1469字）
形式	PDFファイル形式　（157kb）
雑誌掲載位置	171ページ目

　米ＫＬＡ−Ｔｅｎｏｒ　Ｃｏｒｐ．は，ＬＳＩの設計データをチェックするための製品「ＤｅｓｉｇｎＳｃａｎ」を発売した。同社はフォトマスクの検査装置の大手メーカーだが，ＤｅｓｉｇｎＳｃａｎの発売を機に設計をチェックする製品にも踏み出す。まずは，マスク・レイアウト設計データを入力して露光シミュレーションを実行する製品を出した。ＯＰＣ（光近接効果補正）などのＲＥＴ（ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ　ｅｎｈａｎｃｅｍｅ…