Ｃｏｖｅｒ　Ｓｔｏｒｙ　Ｐａｒｔ１　液浸　ＶＳ．　ＥＶＵ，次のＬＳＩ設計・製造戦略〜Ｐａｒｔ１　３２ｎｍ戦略　ＤＦＭがカギ握るリソの選択　難航する歩留まり改善に挑む
日経マイクロデバイス　第246号　2005.12.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第246号（2005.12.1）
ページ数	8ページ　（全11165字）
形式	PDFファイル形式　（560kb）
雑誌掲載位置	112〜119ページ目

「２００９年の量産に間に合う現実的な露光手段は，液浸ＡｒＦしかない」。「マスク価格の高騰を防ぐにはＥＵＶ（ｅｘｔｒｅｍｅ　ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）露光が必須」。リソグラフィ分野では「液浸派」と「ＥＵＶ派」の論争が激しさを増している。この議論は今後のＬＳＩ設計・製造戦略に大きな影響を与える。液浸かＥＵＶかによって，マスク・パターンの複雑さやＤＦＭ（ｄｅｓｉｇｎ　ｆｏｒ　ｍａｎｕｆａｃｔｕｒａｂｉｌｉ…