Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜欠陥レベルは ドライ露光に「あと一歩」
日経マイクロデバイス 第245号 2005.11.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第245号（2005.11.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全511字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （253kb） |
| 雑誌掲載位置 | 99ページ目 |
液浸露光技術に関する国際会議「２ｎｄ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ ｏｎ Ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ」が９月１３日からベルギーのブルージュで開催された。参加者は３６０名を超え，会場は追加のいすを出して対応する盛況となった。２００５年の特徴は，今まで原理検証に近いところにとどまっていた報告が，フルフィールド露光装置が稼働し始めた状況を受け，実データとして発表された…
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