Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜ニコンがついに液浸露光装置を発売 ＮＡ１．０の壁を超え１．０７で ＡＳＭＬに挑む
日経マイクロデバイス 第242号 2005.8.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第242号（2005.8.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全397字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （262kb） |
| 雑誌掲載位置 | 116ページ目 |
ニコンは，液浸技術を導入したＡｒＦ露光装置「ＮＳＲ−Ｓ６０９Ｂ」の販売を２００５年第４四半期に開始すると発表した。開口数（ＮＡ）は，オランダＡＳＭ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ社（ＡＳＭＬ）が２００４年に評価向けに出荷した液浸ＡｒＦ露光装置「ＸＴ：１２５０ｉ」の０．８５をしのぐ１．０７である。量産向け露光装置として初めてＮＡ１．０の壁を超える。ＮＡが１より小さい液浸露光装置を業界に先駆けて出荷したＡＳ…
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