Ｎｅｗ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ〜Ｘ線膜厚測定装置「ＪＶＸ５２００Ｔ」
日経マイクロデバイス 第231号 2004.9.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第231号（2004.9.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全583字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （78kb） |
| 雑誌掲載位置 | 103ページ目 |
多層配線の膜厚の測定時間を従来装置に比べて二ケタ低減できるインライン・モニター膜厚測定装置（図３）。ウエーハ面に対して広い角度範囲にわたってＸ線を一括照射・受光する独自の方式によって，従来１点当たり数分かかっていた計測を最短数秒間に短縮することが可能になった。このため，例えばウエーハ上の９点測定において毎時４０枚以上と高いスループットを実現できる。Ｘ線計測には，光のスポット径が５０μｍ以下のマイ…
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