WEB Access Ranking[Logic]〜45nmノードに向け プロセス・インテグレーション技術の 論文が相次ぐ
日経マイクロデバイス 第230号 2004.8.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第230号(2004.8.1) |
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ページ数 | 1ページ (全420字) |
形式 | PDFファイル形式 (91kb) |
雑誌掲載位置 | 100ページ目 |
6月に開かれた「2004 Symposium on VLSI Technology」の初日,「Advanced CMOS Technology」のセッションでは,45nmノード(hp65)のプロセス・インテグレーションに関する論文が相次いだ。台湾Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.(TSMC)は,SOI(silicon on insulator…
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