Ｒｅｐｏｒｔ［Ｌｏｇｉｃ］〜米Ｉｎｔｅｌが事実上のスキップ宣言 それでも消えないＦ２量産の可能性
日経マイクロデバイス 第217号 2003.7.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第217号（2003.7.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全1287字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （63kb） |
| 雑誌掲載位置 | 140ページ目 |
米Ｉｎｔｅｌ Ｃｏｒｐ．がＦ２エキシマ・レーザー露光に戻る可能性は，「十分に残っている」。同社は５月末に技術を事実上スキップすると発表したにもかかわらず，業界の見方はこうだ（表１）。 これまでＩｎｔｅｌは，２００５年に量産する４５ｎｍプロセス技術ノード向け露光技術の第１候補としてＦ２露光を挙げていた。しかし５月の発表では，従来は第２候補だったＡｒＦエキシマ・レーザー露光を使い，第２候補は置かない…
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