Report[Logic]〜「EPLのインフラ技術が確立」 重ね合わせで20nmを実現
日経マイクロデバイス 第217号 2003.7.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第217号(2003.7.1) |
---|---|
ページ数 | 1ページ (全1107字) |
形式 | PDFファイル形式 (53kb) |
雑誌掲載位置 | 141ページ目 |
マスクを使った縮小投影露光方式の電子ビーム(EB)露光技術(electron projection lithography:EPL)の「インフラ技術が一通り整った」。6月10〜12日に京都で開かれた「2003 Symposium on VLSI Technology」における半導体先端テクノロジーズ(Selete),NECエレクトロニクス(NECEL),HOYA,ニコン,NECの5者共同発表を,…
記事の購入(ダウンロード)
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 330円(税込)
他のIDで購入する
G-Search ミッケ!は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「1ページ(全1107字)」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
(注)特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。