Ranking[Logic]〜「MIRAI」と「あすか」が協力 遺伝的アルゴリズムの最適化技術で 成果の第1弾が登場
日経マイクロデバイス 第217号 2003.7.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第217号(2003.7.1) |
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ページ数 | 1ページ (全433字) |
形式 | PDFファイル形式 (62kb) |
雑誌掲載位置 | 128ページ目 |
「半導体MIRAIプロジェクト」と「あすか」プロジェクトが,デバイス・プロセス分野で共同研究を開始した。既に研究成果の第1弾が登場している。共同研究の技術は三つある。第1は,イオン打ち込みプロセスにおけるTCAD用パラメータを「遺伝的アルゴリズム」を使って自動的に最適化する技術である。この研究成果は産業技術総合研究所の「AISTベンチャー」に認定された進化システム総合研究所がソフトウェア化し,あ…
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