解説［ＬＳＩ製造］ 囲み３〜低加速のＥＢ技術に 組織的に取り組む米国
日経マイクロデバイス 第208号 2002.10.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第208号（2002.10.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全1295字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （286kb） |
| 雑誌掲載位置 | 128ページ目 |
マルチ鏡筒の低加速マスクレス露光装置を当面の目標として，電子ビーム（ＥＢ）技術の組織的な開発が米国で始まった。静電型レンズとマイクロマシン技術により超小型の電子鏡筒を開発しようというプログラムである。日本では，まだこの分野への組織的なアプローチが行われていない。将来，電子顕微鏡技術や電子鏡筒技術において，これまでの日本の優位的な立場が逆転される可能性が高くなりつつあることが危惧される。世界をリー…
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