技術レター［ＬＳＩ製造］〜米ＩＢＭと米Ｎｉｏｎ　解像度が０．０７５ｎｍの　電子顕微鏡を開発
日経マイクロデバイス　第207号　2002.9.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第207号（2002.9.1）
ページ数	1ページ　（全347字）
形式	PDFファイル形式　（63kb）
雑誌掲載位置	45ページ目

電子顕微鏡研究・開発微細化　米ＩＢＭ　Ｃｏｒｐ．と米Ｎｉｏｎ　Ｃｏ．は，解像度が０．０７５ｎｍの電子顕微鏡を開発した。例えば，ＳｉとＳｉ酸化物との結合状態を観察し，絶縁体の品質を特定できる。さらに結合状態を観察することによって材料の成長条件を最適化し，絶縁体の欠陥をなくすといったことも可能になるという。電子光学の分野では過去５０年間にわたって，「収差」と呼ぶレンズの不完全性による像の歪みを修正する…