技術レター［ＬＳＩ製造］〜日本版ＥＵＶ開発機構 「ＥＵＶＡ」を正式発足 ２００５年に実用機を完成
日経マイクロデバイス 第206号 2002.8.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第206号（2002.8.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全515字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （63kb） |
| 雑誌掲載位置 | 33ページ目 |
露光研究・開発微細化 「日本人は目標さえ明確に決めれば必ずやり遂げる。２００５年には実用機を完成させ，他のプロジェクトとも連携していく」。次世代のＥＵＶ（ｅｘｔｒｅｍｅ ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）露光技術を開発する新組織「技術研究組合 極端紫外線露光システム技術開発機構（Ｅｘｔｒｅｍｅ Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ Ｓｙｓｔｅｍ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ Ａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ：ＥＵ…
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