技術レター［ＬＳＩ製造］〜露光技術での協業を拡大する　キヤノンと東京エレクトロン　ＫｒＦやＡｒＦの開発を効率化
日経マイクロデバイス　第206号　2002.8.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第206号（2002.8.1）
ページ数	1ページ　（全401字）
形式	PDFファイル形式　（63kb）
雑誌掲載位置	33ページ目

露光共同開発微細化　キヤノンと東京エレクトロン（ＴＥＬ）は，露光プロセスの共同研究を拡大することに合意した。両社はすでにＦ２エキシマ・レーザー露光で協業してきたが，今回はＫｒＦエキシマ・レーザーやＡｒＦエキシマ・レーザー領域へ拡大する。両社は，まずＫｒＦ露光プロセス開発の効率化を進める。具体的には，キヤノンの宇都宮光機工場内に設置したキヤノンのＫｒＦ露光装置とＴＥＬの塗布・現像装置「ＣＬＥＡＮ　Ｔ…