特集　Ｐａｒｔ２〜中国の特許最新事情　総合的な知財戦略が重要に
日経マイクロデバイス　第205号　2002.7.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第205号（2002.7.1）
ページ数	6ページ　（全4687字）
形式	PDFファイル形式　（157kb）
雑誌掲載位置	110〜115ページ目

中国　特許　システムＬＳＩ中国の特許・実用新案に対する最新事情を調査した。企業全体の傾向として，特許出願件数は多く，登録の割合も高いが，半導体製造技術に関しては極端に特許出願件数が低いということがわかった。中国進出を加速している日本の半導体メーカーは，ビジネス強化をサポートするために，できるだけ早く中国に関する知的財産の総合戦略を策定し，実行に移す必要がある。　　　　　　　　　　　　（久保田　茂夫…