技術レター［ＬＳＩ設計＆ＬＳＩ製造］〜キヤノンと米ＡＭＡＴの共同開発　成果はテクノロジ・センターから　ソリューションとして提供
日経マイクロデバイス　第204号　2002.6.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第204号（2002.6.1）
ページ数	1ページ　（全319字）
形式	PDFファイル形式　（63kb）
雑誌掲載位置	35ページ目

共同開発製造装置ソリューション　キヤノンと米Ａｐｐｌｉｅｄ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，　Ｉｎｃ．（ＡＭＡＴ）が発表した１３０〜７０ｎｍプロセスの共同開発の詳細が明らかになった。期間は２００３年までであり，まずゲートや配線向けの１３０〜１００ｎｍプロセス，その後７０ｎｍプロセスを開発する。このためにＡＭＡＴはキヤノンから３００ｍｍウエーハ対応のＫｒＦエキシマ・レーザー露光装置とＡｒＦエキシマ・レーザー露光…