論文［ＬＳＩ製造］〜原因を特定する新手法で 立ち上げ期間を大幅削減
日経マイクロデバイス 第202号 2002.4.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第202号（2002.4.1） |
|---|---|
| ページ数 | 7ページ （全7261字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （310kb） |
| 雑誌掲載位置 | 91〜97ページ目 |
生産技術歩留まりシステムＬＳＩシステムＬＳＩ製造ラインの歩留まりを急速に立ち上げる技術が登場した。この技術を開発・導入した東芝では，０．１３μｍラインの立ち上げ期間を０．１８μｍラインに比べて約３０％短縮することを狙う。さらに，現在開発中の０．０９μｍプロセスを使ったラインに関しては，０．１３μｍより短期間で立ち上げることを目指す。通常，ＬＳＩの製造ラインを短期間で立ち上げるためには，歩留まりを下…
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