特集，Ｐａｒｔ３〜マスクレス露光技術で　真のカスタム生産に挑戦
日経マイクロデバイス　第201号　2002.3.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第201号（2002.3.1）
ページ数	8ページ　（全10916字）
形式	PDFファイル形式　（286kb）
雑誌掲載位置	56〜63ページ目

露光　マスクレス　システムＬＳＩ高速のマスクレス露光技術が登場した。開発の指揮をとる東京大学教授の奥村勝弥氏は，この技術によって真のカスタム生産が可能になると指摘する。これまでカスタム生産技術として「ミニ・ファブ」というコンセプトが提案されてきたが，露光だけは既存技術を使わざるを得なかった。現状の露光技術は，微細化の進展によって１種類のシステムＬＳＩに数千万〜１億円のマスク・セットが必要になりつつ…