特集,Part2〜Siの潜在能力を引き出し 新しい半導体産業を創出
日経マイクロデバイス 第201号 2002.3.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第201号(2002.3.1) |
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ページ数 | 8ページ (全9231字) |
形式 | PDFファイル形式 (333kb) |
雑誌掲載位置 | 48〜55ページ目 |
プラズマCVD システムLSI 産学官連携Siの潜在能力を最大限に引き出し,新しい半導体産業を創出する研究・開発プロジェクトが始まった。東北大学教授の大見忠弘氏がリーダーを務めるプロジェクト「DIIN(New Intelligence for IC Differentiation)」である。研究拠点となる東北大学構内の「未来情報産業研究館」には,大見氏が過去16年間にわたって開発した技術を集約した…
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