解説［ＬＳＩ設計］〜微細化を活かし切る　回路技術が相次ぎ登場
日経マイクロデバイス　第201号　2002.3.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第201号（2002.3.1）
ページ数	2ページ　（全1769字）
形式	PDFファイル形式　（297kb）
雑誌掲載位置	103〜104ページ目

回路設計微細化学会ＬＳＩの微細化を活かし切る回路技術が相次いで出てきた。これまでＬＳＩはプロセスの微細化を進めることによって低コスト化，高性能化，低消費電力化をすべて同時に実現してきた。ところが０．１３μｍプロセスを境に「微細化万能」ではなくなってきている。そこで微細化の特徴を生かしながら不足部分を回路技術で補う必要が出てきた。例えば米Ｉｎｔｅｌ　Ｃｏｒｐ．は，マイクロプロセサの低消費電力化に向け…